مقاله بررسی اماری سطوح لایه های نازک اکیسد ایندیوم الاییده با قلع با word دارای 4 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی اماری سطوح لایه های نازک اکیسد ایندیوم الاییده با قلع با word کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی اماری سطوح لایه های نازک اکیسد ایندیوم الاییده با قلع با word،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله بررسی اماری سطوح لایه های نازک اکیسد ایندیوم الاییده با قلع با word :

سال انتشار: 1389

محل انتشار: هفدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران

تعداد صفحات: 4

نویسنده(ها):

داود رئوفی – گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه بوعلی سینا همدان
فائق حسین پناهی – گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه بوعلی سینا همدان

چکیده:

دراین تحقیق لایه های نازک اکسید ایندیوم الاییده با قلع ITO در ضخامتهای مختلف به روش تبخیر با پرتوالکترونی برروی بستره های شیشه ای در دمای اتاق لایه نشانی شده اند لایه های تهیه شده در شرایط فوق دمای اتاق امورف هستند ضخامت لایه های 100، 170 و 250 نانومتر می باشد توزیع ارتفاع های سطح اغلب جهت توصیف توپوگرافی سطح مور د استفاده قرا ر م یگیرد به همین دلیل با استفاده از توزیع ارتفاع ها ی سطح اغلب جهت توصیف توپوگرافی سطح مورد استفاده قرار می گیرد به همین دلیل با استفاده از توزیع ارتفاع ها که اغلب نامتقارن است مورفولوژی سطح لایه ها ی ITO درحالت امورف مورد بررسی قرار گرفتند. طبق مشاهداتحاصل از میکروسکوپ نیروی اتمی AFM ناهمواری سطح RMS و ناهمواری میانگین Ra با افزایش ضخامت کاهش پیدا میکنند همچنین در بررسی چولگی skewness( سطح نمونه ها مشاهده شد که با کاهش ناهمواری سطح مقادیر مثبت چولگی و پخ شدگی افزایش می یابد